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GD90辉光放电质谱仪

简要描述:GD90辉光放电质谱仪作为一种固体样品的直接分析方法,被认为是目前为止*的同时具有Z广泛的分析元素范围和足够灵敏度的元素分析方法,已成为固体材料多元素分析尤其是高纯材料分析的强有力的工具。直接对固体进行分析避免了将固体转化成溶液时因在溶解、稀释等过程中造成的玷污和灵敏度降低,而且该方法对样品的分析面积大,所得数据结果有好的代表性。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2017-12-24
  • 访  问  量: 5194

详细介绍

GD90辉光放电质谱仪

Autoconcept GD90是一个专为高精度元素分析所设计的高分辨辉光放电质谱仪。此辉光放电质谱仪(GDMS)提供了固体金属与缘体的直接分析检测。它具有非常宽的元素覆盖范围,可得到超过70种元素的有效数据,灵敏度高,轻元素重元素均可。

    GDMS技术使原子化(碎片化)过程与离子化过程分开进行,故而可容易的对ppbppt级别的痕量杂质进行测量。此法还使得GDMS技术拥有 小的基体效应且无须特定参照材料。它可对金属与合金进行全扫描分析,可对半导体进行整体的测量分析,可对多层结构与镀层进行深度剖析。是包括金属、合金、半导体以及缘体(须配RF源)等高纯材料的生产与质量控制的理想工具。

GD90辉光放电质谱仪的主要特性:

·高分辨率,特别是对于有干扰离子存在的测定而言十分重要。

·广泛的元素涵盖范围,软件中包括70个元素相关的干扰离子数据。

·由于原子化和离子化过程发生在不同区域,带来可忽略的基体效应。

·低至亚ppb级的定量数据。

·具有深度剖面同位素比值分析能力。

· 少的样品制备过程。

应用领域:

辉光放电质谱仪--AUTOCONCEPT GD90              

半导体:

几乎所有的电子、光学与光电设备都需要高纯度半导体。此类半导体的电学性质依赖于其中的杂质成分。此类材料只有达到低的杂质水平才能保证终端产品(例如微处理器与微型器件)的性能。

GDMS有助于半导体的整体调查分析,可对杂质进行定量鉴定,可达到痕量与超痕量水平。

核能:

在核技术与核研究中,科研人员对同位素比例进行精准的测量有着极大的兴趣。被广泛接受的方法是热电离质谱(TIMS)。在此方法中,样品必须被溶解,需要在分析前对感兴趣的分析物进行化学分离。

GDMS同样被用于含核材料样品的同位素鉴定。通过对比,GDMS被证明是在精准度要求的前提下对BLi以及U同位素丰度鉴定的优势性技术。GDMS有着减少样品制备过程的优势。

          

高纯度金属:

在金属与合金的大批量生产过程中,痕量杂质的总量不易控制。但为了控制其力学、化学、电学与其他高级性质,受控添加痕量元素以及提纯过程都是减少材料杂质含量所需要的。

GDMS有助于成品中杂质的检出与鉴定,以确保由此金属制成的系统的质量与性能。

合金

合金与超合金试生产高性能机械-例如涡轮机-的关键材料。由于此类机械通常在高温高压下运行,即使痕量元素成分发生轻微变化都有可能导致灾难性后果。

GDMS在鉴定产品的元素组成上非常理想,用以保证机械系统的 优化性能。

辉光放电质谱法作为一种固体样品的直接分析方法,被认为是目前为止*的同时具有 广泛的分析元素范围和足够灵敏度的元素分析方法,已成为固体材料多元素分析尤其是高纯材料分析的强有力的工具。直接对固体进行分析避免了将固体转化成溶液时因在溶解、稀释等过程中造成的玷污和灵敏度降低,而且该方法对样品的分析面积大,所得数据结果有好的代表性。

优势分析应用领域: 

 金属及合金材料

包括高纯金属,溅射靶材,稀贵金属,超级合金等材料的痕量杂质的半定量和定量分析,同时可分析C、N、O等轻元素。 

 半导体材料

包括硅片,CdTe,GaAs及其他多种高纯电子材料的杂质分析。 

 无机非金属材料

包括陶瓷粉末,玻璃,稀土氧化物等材料分析。 

薄层分析,深度分布剖面分析等

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