详细介绍
M5000全谱直读光谱仪是国内*台CCD全谱直读光谱仪，采用高稳定性多功能数字光源、高速CCD全谱采集系统等 新良好技术，集合光谱自校正、光学镜头免拆洗、优化设计的光路、高效金属粉尘吸收装置等创新性设计，为用户提供稳定、快速、准确、低运营成本的各种基体金属材料分析解决方案。
产品特点：
1、台式CCD全谱直读，体积小、功能强、功耗低；
2、双光室光学系统设计；
3、良好的激发光源和气路设计；
4、良好的单火花分析技术和光谱延时采集技术；
5、完善的工厂校正曲线分析功能；
6、良好全面的智能算法，保证更为准确的分析。
M5000产品特点
◆台式CCD全谱直读，体积小、功能强、功耗低
兼备大型直读光谱仪的优异金属元素分析能力及小型光谱仪的方便节能特性，满足应用需求的同时大大降低运行维护成本。能够测定金属行业需要分析的所有常规元素，分析范围广，短波段分析能力可达140 nm。可根据需要选配相应工作曲线，增加分析元素，无需更改硬件配置，实现一机多能。分析时仪器 大功率400 VA，待机平均功率100VA，节能环保。
◆双光室光学系统设计
波长范围140nm-680nm，可以满足更多元素的分析需求。双光室光路设计，每个光室都采用了特殊的透镜、光栅和CCD，使光室性能达到 佳。全谱采集设计，谱线信息更丰富，分析元素可根据需要增减，无需更改硬件。光学系统配备智能恒温控制系统，提供了稳定可靠的分析基础。
◆良好的激发光源和气路设计
可编程脉冲全数字光源，波形可任意配置，可为不同分析样品提供 佳的分析波形，让M5000在各种应用场合都能有出色的表现。完善的激发保护系统，让激发操作更安全；良好的激发自检功能设计，保证激发过程安全可靠。特殊设计的激发台氩气流路，有效降低氩气消耗量，节约氩气使用成本；光学镜头免拆洗设计，减少维护工作量。
◆良好的单火花分析技术和光谱延时采集技术
良好的单火花检测技术，使仪器具备了酸溶物分析的能力。光谱延时采集技术，避开了强背景干扰，大大提高了仪器的分析性能。
◆完善的工厂校正曲线分析功能
良好全面的工厂校正曲线分析功能，有效降低各种干扰因素，保证更为准确的分析。更符合国内用户需求的可定制的工厂校正曲线分析模式，具有更广的分析适应性，为国内众多的特钢生产用户提供更*的解决方案。
◆良好全面的智能算法
良好全面的智能算法，保证更为准确的分析。全谱分析，实现更完善的扣干扰，扣暗电流、背景和噪声的算法，极大地提高了仪器的分析能力。
◆专业简洁的操作软件
M5000专业软件简洁明了，方便使用的同时彰显专业的仪器分析特性。
M5000技术参数
◆分析基体
Fe,Al,Cu等多种基体合金的成分分析
◆光学系统
帕型-龙格结构的全谱光学系统
波长范围：140nm～680nm
多个高性能CCD探测器
耐环境温度变化
◆分析程序
工厂校正曲线分析功能
可灵活选择分析程序
可根据用户需求扩展分析功能
◆样品激发台
充氩式
便于使用的样品夹具
具有电极自吹扫功能，使电极使用寿命更长、清洁电极更加容易
13 mm的激发孔径更利于样品分析
◆数据采集系统
高性能DSP及ARM处理器，具有超高速数据采集及控制功能
单火花采集及光谱延时采集，实现更优化元素含量测量
外置式计算机（用户自选）
高速以太网数据传输
◆激发光源
可编程脉冲数字光源
优化设计的控制和功率电路，完善的激发安全保护功能
为不同分析目标提供 佳火花、电弧或组合激发波形
高能预燃技术（HEPS）
频率：100Hz～1000Hz
放电电流： 大400 A
◆分析软件
基于Windows操作系统的图形化分析软件，简洁、专业
完备的自动系统诊断功能
完善的数据库管理功能，可方便查询、汇总数据
适应 新的Windows操作系统
◆电源和环境要求
AC220V±20V，50Hz
激发 大功率400 VA，待机平均功率100 VA
工作温度：10°C～30°C（该温度范围内温度变化速度小于5℃/h）
工作湿度：20%～80%
◆尺寸
长度：702 mm
宽度：603 mm
高度：425 mm
重量：约80 kg
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